Annexe – Lenze EPM-H515 User Manual
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Annexe
Résistance aux produits chimiques
9
134
EDBPM-H515 DE/EN/FR 2.0
Unité de commande
Substance
Avec
protecteur
d’écran
EPM-H5xx
EPM-H6xx
EPM-H4xx
EPM-H3xx
Substance
Hypochlorite de sodium
≥ 20 %
—
—
Isopropanol
☺
☺
☺
Méthanol
☺
☺
—
Peroxyde d’hydrogène
≥ 25 %
—
—
Réactif d’attaque
micrographique
concentré
—
—
—
Tétrachloréthylène
—
—
☺
Toluène
☺
☺
☺
Trichloréthylène
—
—
☺
EPM-H3xx
EPM-H310, EPM-H312, EPM-H315
EPM-H4xx
EPM-H410
EPM-H5xx
EPM-H502, EPM-H505, EPM-H507, EPM-H510, EPM-H515, EPM-H520,
EPM-H521, EPM-H525
EPM-H6xx
EPM-H605
☺
L’interface opérateur résiste à la substance chimique ; aucun
endommagement visible.
L’interface opérateur ne résiste pas à la substance chimique ; interface
opérateur endommagée par la substance.
—
Non testé
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